AF镀膜机报价「至成真空科技」

AF防***真空镀膜机防***处理的工艺流程：

（1）使用弱碱性清洗剂或溶剂去除基材表面油分、水分等污迹，通过超声波清洗效果更好;（2）将AF药液镀在产品表面成膜;（3）烘烤：喷涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分钟），视具体要求及产品情况调整至良好;（4）清洁：产品清洁后，成品包装。

AF防***真空镀膜机特点和应用领域:

（1）防污性：防止***及油污不容易粘附、轻易擦除；（2）防刮伤：表面滑顺，手感舒服，不容易刮花；（3）膜层薄：优异光学性能、不改变原有的纹理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF防***真空镀膜机的品质：

（1）擦伤测试及水滴角指标：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦伤测试（#0000钢丝绒、1KG压力、10*10MM摩擦接触面积、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次数2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃钢化盖板为例，9HMax.铅笔硬度。

AF真空镀膜机镀膜产品特性

AF真空镀膜机大家可能平时接触的很少，但是这款型号设备使用范围却很广泛，比如：手机，平板电脑，显示器，数码产品，电器，卫浴和金属件等镀膜层都有用到这款设备，下面至成真空镀膜小编为大家详细介绍一下这款设备的镀膜产品特性。

1）防污性：防止***及油污不容易粘附、轻易擦除；

2）防刮伤：表面滑顺，手感舒服，不容易刮花；

3）膜层薄：优异光学性能、不改变原有的纹理；

4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF真空镀膜机镀膜产品应用领域：手机、平板、电视、LED等玻璃AR---anti-reflection，中文为抗反射增透，通过提高玻璃（屏幕）透光率，降低玻璃（屏幕）反射率达到增透目的。可选择材料比较多，一般用高低折射率材料交叉堆叠镀上去，可采用真空蒸发镀也可采用磁控溅射镀。

真空镀膜机溅射工艺

真空镀膜机溅射工艺主要用于真空镀膜机溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受Ar离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。真空镀膜机溅射刻蚀时，应尽可能从真空镀膜机溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时，溅射源置于靶极，受Ar离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜；若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。在溅射中，溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的，其能量较高，往往比蒸发原子高出1～2个数量级，因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。

若在溅射时衬底加适当的偏压，可以兼顾衬底的清洁处理，这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。另外，用真空镀膜机溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜，便于制备化合物或合金的薄膜。溅射主要有离子束溅射和等离子体溅射两种方法。离子束溅射装置中，由离子枪提供一定能量的定向离子束轰击靶极产生溅射。离子枪可以兼作衬底的清洁处理和对靶极的溅射。为避免在绝缘的固体表面产生电荷堆积，可采用荷能中性束的溅射。中性束是荷能正离子在脱离离子枪之前由电子中和所致。离子束溅射广泛应用于表面分析仪器中，对样品进行清洁处理或剥层处理。由于束斑大小有限，用于大面积衬底的快速薄膜淀积尚有困难。等离子体真空镀膜机溅射也称辉光放电溅射。产生溅射所需的正离子来源于辉光放电中的等离子区。靶极表面必须是一个高的负电位，正离子被此电场加速后获得动能轰击靶极产生溅射，同时不可避免地发生电子对衬底的轰击。

小型实验真空镀膜机

小型实验真空镀膜机适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，具有提高产品档次，外观更显华贵作用。采用电阻热蒸发方式进行镀膜、功能齐全，适应性强的特点。可以采用电阻蒸发镀，电弧镀或磁控溅射镀。

小型实验真空镀膜机适用于任意底色的塑料,陶瓷、树脂工艺品，玻璃等经真空镀膜后皆可镀成金、银、七彩、红、紫、蓝、灰、黑等多种鲜艳颜色，具有提高产品档次，外观更显华贵作用。实验用真空镀膜机具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、易维护的特点。可实现全自动控制或手动控制、操作简单可靠，可自动完成各种镀膜工艺参数。可以采用电阻蒸发镀，电弧镀或磁控溅射镀。不管是哪种镀膜方式均可用于科研、教学、电子元件、及涂料生产等行业的表面表面镀膜，可电镀铝、锡、铜、铬等金属。