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中频磁控+多弧离子溅射镀膜机特点

中频磁控+多弧离子溅射镀膜机具有：结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀，插刀，铣刀，钻头等表面沉积超硬涂层，也可用于钟表，眼镜架，手机壳、锁具，洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层，本设备可实现一机多用沉积多种膜层，膜层细腻，有纯钛（Ti）氮化钛（TiN）氧化钛（TiO）纯锆（Zr）氮化锆（ZrN）碳化钛（TiC）纯铬（Cr）氮化铬（CrN）碳氮化钛（TiCN）氮化铝钛（TiAlN），PVD镀膜膜层目前常见的颜色主要有：深金***，浅金***，咖啡色，古铜色，***，黑色，灰黑色，七彩色,蓝色等。亮度好，饱满度好

至成真空科技可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

真空镀膜机给物件镀膜,为什么要在真空状态下进行?

真空镀膜机已经广泛应用于生活中，大家对它也是耳熟能详，也了解他的作用和用处，包括他的应用领域，但是很多人却不太了解，真空镀膜机在给物件镀上一层膜的时候，为什么要选择在真空状态下进行：

大家都知道物件镀膜在常压下蒸镀膜料无法形成理想的薄膜，事实上，如在压力不够低(或者说真空度不够高)的情况下同样得不到好的结果，比如在10托数量级下蒸镀铝，得到的膜层不但不光亮，甚至发灰、发黑，而且机械强度极差，用松鼠毛刷轻轻一刷即可将铝层***。蒸镀必须在一定的真空条件下进行，这是因为：

（1）较高的真空度可以保证汽化分子的平均自由程大于蒸发源到基底的距离。

由于气体分子的热运动，分子之间的碰撞也是极其频繁的，所以尽管气体分子运动的速度相当的高(可达每秒几百米)，但是由于它在前进的过程中要与其它分子多次碰撞，一个分子在两次连续碰撞之间所走的距离被称为它的自由程，而大量分子自由程的统计平均值就被称为分子的平均自由程。

（2）在较高的真空度下可以减少残余气体的污染在真空度不太高的情况下，真空室内含有众多的残余气体分子(氧、氮、水及碳氢化合物等)，它们能给薄膜的镀制带来极大的危害。它们与汽化的膜料分子碰撞使平均自由程变短；它们与正在成膜的表面碰撞并与之反应；它们隐藏在已形成的薄膜中逐渐侵蚀薄膜；它们与蒸发源高温化合减少其使用寿命；它们在已蒸发的膜料表面上形成氧化层使蒸镀过程不能顺利进行。

光学真空镀膜机薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为哪些膜

光学真空镀膜机薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为：反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等。

光学真空镀膜机光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的;可以是透明介质，也可以是吸收介质;可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，起表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫反射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各种向异性;膜层具有复杂的时间效应。

多弧离子真空镀膜机发展历程及特点

20世纪70年代以来，随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求不断提高，单一材料性能已经不能满足某些特征环境下工作机械的性能要求。离子真空镀膜机镀膜技术通过物理作用，使基体表面沉积出薄膜，在美观的同时又有效提高镀件的物理化学性能，从而提高产品的使用寿命。离子镀技术是当今使用面广、***的表面处理技术之一。据统计，国内外已有近一半以上表面处理使用多弧离子镀技术，特别适用于对耐磨性、耐腐蚀性有特殊要求的场合。80年代后期，国内外相继开发了离化效率更高的电弧放电真空离子镀、多弧真空离子镀等，使离子镀技术进入了一个新阶段.

近年来，离子真空镀膜机的自动化程度得到了较快发展，国外的设备采用智能一体化控制系统，可精准计算和控制镀膜过程中的基体温度、气体流量和靶电流等关键性参数。国内真空离子镀膜机的自动化程度也有了一定的发展，但在镀膜产品稳定性和精准性方面尚需提升，设备依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。