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用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺有哪些优势

用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺，不但能节省大量的膜材和降低能耗，而且还会消除湿法镀膜中所产生的环境污染。因此国外在钢铁零件涂镀防腐层和保护膜方面，已采用真空镀膜工艺来代替电镀工艺。在冶金工业中，为钢铁和带钢加镀铝防护层已很普遍；在机械制造业中，真空镀膜工艺用于改变改变某些加工工艺和节约贵重的原材料，如飞机涡轮发动机的叶片已经不用价格昂贵的耐高温金属制造，而是采用价格低廉易加工材料，成形后再用真空镀膜的方法在叶片表面上加镀耐高温，耐腐蚀的防护层。再如汽车制造业中采用塑料制品金属化零件代替各种金属零件，既减轻了汽车的重量又节约了燃油的消耗。在金属切削刀具上加镀TiN硬膜可使用刀具寿命提高3～6倍，从而节省了大量的高速钢材。塑料薄膜采用真空磁控溅射镀膜机镀膜的方法加镀铝等金属膜，再进行染色，可得到用于工业中的装饰品薄膜。

真空卷绕镀膜机

的卷绕系统采用四电机驱动，恒张力控制，可实现距离卷绕和接触卷绕两种卷绕方式。提供了多种不同的卷绕方式，以适用于所镀制的薄膜种类和工艺要求。在卷绕系统中设置了适用于CPP、PET、OPP等多种塑料薄膜特殊的展平装置，能达到无褶皱、无划伤、无边缘积聚的优良蒸镀和收卷质量。强劲实用的抽真空系统相对***的卷绕室和蒸发室，每一个室都有一套***的真空泵组与其对应。能在很短的时间内达到镀膜所需的工作真空度，使设备的生产率得到很大地提高。蒸发源系统通过严密的计算采取恰当的蒸发距离和舟间距，采取交错安装的排布形式，使用两端顶持的舟安装方式保证了良好的蒸镀均匀性的成膜质量。可以使用普通蒸发速率的陶瓷蒸发舟，也可以使用高蒸发率的蒸发舟。其功率可达14KVA，蒸发速率可达9克/分钟。冷却加热系统：蒸镀辊配制有***的冷却加热系统，采用特殊的油导热介质，能有效的冷却蒸镀辊，防止薄膜热损伤。等离子预处理装置：在镀前对薄膜表面进行离子轰击处理，除去薄膜表面吸附的水气及杂质，提高附着力，改善镀膜质量。简单便捷的控制系统：便捷的全自动控制系统和友好的操作界面，可根据需要分别采用手动、半自动以及自动方式。

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能

严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。 采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

真空镀膜设备的化学成分的分析

真空镀膜设备的化学成分的分析 从蒸发源射出的蒸汽流脱离蒸镀原料表面的时候温度很高，能量也比较高，在上升通过蒸发区到达基材表面的过程中，由于碰撞、运动中的能量交换导致动能下降，到达基材表面的粒子很快与基材交换能量，迅速沉积在其表面。 在镀膜工艺中，离子轰击改善基材的表面，在蒸发区建立等离子气体以提高气化微粒功能等辅助手段，较好地解决了镀膜与基材结合牢固度的问题。 其实在众多的镀膜工艺里，氧化物镀膜工艺和程序是有非常大的难度的，因为它面临着很多因素影响，环境和材料等等，但是氧化物的镀膜工艺却是受到广大的企业生产的亲睐。所以这种镀膜工艺和设备的发展趋势会越来越好！